濰坊星泰克微電子材料有限公司
SUNTIFIC MATERIALS(WEIFANG),LTD
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SUN-502P正性光刻膠SUN-502P 紫外正性光刻膠，是星泰克專利技術，主要特點為耐干法刻蝕性能好，120℃ 堅膜不變形。適合于深刻蝕工藝，比如 7 微米以上的氮化鎵刻蝕。SUN-502P 采用安全性溶劑。點擊查看
SUN-100P系列紫外正性光刻膠SUN-100P 系列紫外正性光刻膠采用安全溶劑，具有曝光靈敏度高、對比度高、分辨率高、光刻成品率高以及良好的工藝寬容度等諸多優(yōu)點。配方按 i- 線和g- 線光刻優(yōu)化，金屬離子濃度在 20ppb 以下，可廣泛應用于 0.35μm 及以上線寬的IC 及相關半導體制造工藝。點擊查看- SUN-1700P系列高感度正性光刻膠點擊查看
- SUN-1600N系列納米壓印光刻膠點擊查看
- SUN-2100N系列耐酸腐蝕光刻膠點擊查看
- BM光刻膠點擊查看
- 臨時鍵合膠點擊查看
- LOR光刻膠點擊查看
關于星泰克
SUNTIFIC
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???? ?? 濰坊星泰克微電子材料有限公司創(chuàng)建于 2010 年，公司專注于光刻膠的研發(fā)、生產和銷售光刻膠。光刻膠是制造集成電路芯片等半導體元器件的核心材料之一。
? ? ? ?公司擁有先進和完善的光刻膠研發(fā)設備，研發(fā)團隊經驗豐富。公司的主要產品包括藍寶石襯底（PSS）專用光刻膠、剝離（lift-off）光刻膠、柔性光刻 膠、納米壓印光刻膠、SU-8 厚膠、BM 膠等各類高端光刻膠及配套試劑，廣泛應用于 LED、LCD、IC、MEMS、封裝、顯示等領域。所有產品均是自主研發(fā)，公司擁有全部的自主知識產權。多個產品屬于全球首創(chuàng)技術。公司有能力定向開發(fā)，根據客戶要求而量身定制光刻膠和光刻工藝，已經有多個個性化產品的成功案例。公司技術人員對自己開發(fā)的產品了如指掌，可以為客戶提供及時和全方位的售后服務。
???????公司以向客戶提供價值為宗旨，星泰克創(chuàng)新產品可以為客戶簡化工藝、提高良率以及降低環(huán)保成本。
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2023年危險廢物合計產生量為33.03077噸，其中廢酸（HW34）1.395噸、廢有機溶劑與含有有機溶劑廢物（HW06）13.675噸、廢顯影液（HW16）8.394噸、廢活性炭、廢包裝物、廢過濾材料（HW49）9.56337噸、廢機油及廢機油桶（HW08）0.0034噸。委外處置33.0324噸，儲存量0噸。 - MCM功率電源模塊電磁兼容技術研究添加時間：2021/04/15點擊數：暫無數據對MCM功率電源而言，由于其工作在幾百kHz的高頻開關狀態(tài)，故易成為干擾源。從國外同類公司的報......
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